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[ Tetrafluorometano ]
Nei processi al plasma viene spesso utilizzato quale gas di processo, in particolare nel caso di processi di etching. Il tetrafluorometano, (CF4, detto anche freon 14) è, a condizioni normali, un gas completamente inerte, tuttavia in plasma forma atomi di fluoro liberi e radicali di CF2 e CF3. Questi hanno un importante efficacia nell’etching, ad es. sull’ossido di silicio. Miscele di CF4 e O2 agiscono nell’etching 5 volte più velocemente del mero ossigeno.
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