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Caratteristiche tecniche:
Plasma etcher Nano
Quadro elettrico:
largh. 580 mm, alt. 650 mm, prof. 600 mm
Camera:
Ø 240 mm, lungh. 400 mm
(Optional: lungh. 600 mm)
Materiale: quarzo o vetro borosilicato
Parete anteriore e posteriore della camera: alluminio
Volume della camera:
ca. 18 litri
Alimentazione gas:
2 canali gas con valvola a spillo
Generatore:
40kHz/300 W, variabile
(Optional: 13,56 MHz o 2,45 GHz)
Pompa per vuoto:
Leybold, Tipo D8B (8 m³/h)
Sistema di caricamento:
Vassoio 1 pz.
Sistema di controllo:
semiautomatico, tempo di processo regolato da temporizzatore
Optional / accessori
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Plasma sistemi NANO UHP impianto di piccole dimensioni con controllo semiautomatico: pulizia,
attivazione, etching, rivestimento |
