	Home
	Tecnica del plasma
	Glossario
	FAQ
	Impianti a plasma
	Plasma a bassa pressione
	Zepto - low-cost
	Atto - low-cost
	Femto
	Femto UHP
	Femto PCCE
	Pico
	Pico UHP
	Nano
	Nano UHP
	Tetra-30-LF
	Tetra-30-LF-PC
	Tetra-100-LF
	Tetra-100-LF-PC
	Tetra-150-LF
	Tetra-150-LF-PC
	Impianti speciale
	Schema degli impianti
	Varianti costruttive
	Sistema di comando
	Optional / accessori
	Microscopia elettronica
	Plasma atmosferico
	Generators
	Servizio
	Agenti
	Referenze
	Fiere
	Contatti
	Dove siamo
	Chi siamo
	Download

IMPIANTI Alungh.PLASMA - IMPIANTI STANDARD - STANDARD PLASMA SYSTEMS

[ IMPIANTI AL PLASMA - STANDARD PLASMA SYSTEMS - FEMTO UHP]

L'impianto da laboratorio plasma system FEMTO da due litri con controllo semiautomatico viene impiegato prevalentemente nei seguenti settori:

produzione piccole serie
analitica (SEM, TEM)
tecnica medica
sterilizzazione
ricerca e sviluppo
archeologia
tecnica tessile
tecnica dei semiconduttori
tecnica delle materie plastiche

Prospetto FEMTO ( in inglese ) (PDF 1005 KB)

Dati tecnici Plasma cleaner Femto UHP tipo A Timer

Quadro elettrico:
largh. 345 mm, alt. 211 mm,
prof. 420 mm
Camera:
Ø 95 mm, lungh. 270 mm
Volume della camera:
ca. 1,9 Litri
Materiale:
quarzo o borosilicato
Alimentazione gas:
1 canale gas con valvola a spillo
Generatore:
40kHz/100W, variabile
Pompa per vuoto:
Pfeiffer Duo(2,5m³/h)
Sistema di caricamento:
Vassoio 1 pz.
Sistema di controllo:
manuale, tempo di processo regolato da temporizzatore by timer
Timer:
H8GN

Impianti a plasma FEMTO UHP tipo A:
Impianto di piccole dimensioni: sviluppo processo, pulizia, attivazione, etching per piccole serie.

Optional / accessori

Dati tecnici Plasma cleaner Femto UHP tipo B

Quadro elettrico:
largh. 560 mm, alt. 310 mm,
prof. 420/600 mm
Camera:
lØ 95 mm, lungh. 270 mm
Volume della camera:
ca. 1,9Litri
Materiale:
quarzo o borosilicato
Alimentazione gas:
1 canale gas con valvola a spillo
Generatore:
40kHz/100W, variabile
Pompa per vuoto:
Pfeiffer Duo(2,5m³/h)
Sistema di caricamento:
Vassoio 1 pz.
Sistema di controllo:
manuale, tempo di processo regolato da temporizzatore by timer
Timer:
Dilet

Kleinanlage FEMTO TYP B : Einsätzbar in der Prozessentwicklung zum Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie

Plasma system FEMTO UHP tipo B:
Impianto di piccole dimensioni: sviluppo processo, pulizia, attivazione, etching per piccole serie.

Optional / accessori

Dati tecnici Plasma cleaner Femto UHP tipo C

Quadro elettrico:
largh.562 mm, alt.211 mm, prof.420 mm
Camera:
Ø 100 mm, lungh 270 mm
Volume della camera:
ca. 1,9 Litri
Materiale:
quarzo o borosilicato
Alimentazione gas:
2 canali gas con valvola a spillo
Generatore:
40kHz/100W, variabile
Pompa per vuoto:
Pfeiffer Duo(2,5m³/h)
Sistema di caricamento:
Vassoio 1 pz.
Sistema di controllo:
manuale, tempo di processo regolato da temporizzatore by timer
Timer:
LT4alt.

Kleinanlage FEMTO TYP C : Einsätzbar in der Prozessentwicklung zum Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie

Plasma system FEMTO UHP tipo C:
Impianto di piccole dimensioni: sviluppo processo, pulizia, attivazione, etching per piccole serie.

Optional / accessori

Dati tecnici Plasma cleaner Femto UHP tipo D

Quadro elettrico:
largh.310 mm, alt.570 mm, prof.420 mm
Camera:
largh.103 mm, alt.103 mm, lungh.270 mm
Volume della camera:
ca. 1,9 Litri
Materiale:
quarzo o borosilicato
Alimentazione gas:
2 canali gas con valvola a spillo
Generatore:
40kHz/100W, variabile
Pompa per vuoto:
Pfeiffer Duo(2,5m³/h)
Sistema di caricamento:
Vassoio 1 pz.
Sistema di controllo:
manuale, tempo di processo regolato da temporizzatore by timer
Timer:
LT4H

Kleinanlage FEMTO TYP D : Einsätzbar in der Prozessentwicklung zum Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie

Plasma system FEMTO UHP tipo D:
Impianto di piccole dimensioni: sviluppo processo, pulizia, attivazione, etching per piccole serie.

Optional / accessori

Dati tecnici Plasma cleaner Femto-PC UHP tipo E

Quadro elettrico:
largh.500 mm, alt.460 mm, prof.550 mm
Camera:
Ø 100 mm, lungh 270 mm
Volume della camera:
ca. 1,9 Litri
Materiale:
quarzo o borosilicato
Alimentazione gas:
max. 3 canali gas ciascuno con MFC
Generatore:
40kHz/100W W
(Optional: 13,56 MHz o. 2,45 GHz)
Pompa per vuoto:
Pfeiffer Duo(2,5m³/h)
Sistema di caricamento:
Vassoio 1 pz.
Sistema di controllo:
Controllo PC (Windows)
Timer:
Dilet

Kleinanlage FEMTO TYP E : Einsätzbar in der Prozessentwicklung zum Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie

Plasma system FEMTO-PC UHP tipo E:
Impianto di piccole dimensioni: sviluppo processo, pulizia, attivazione, etching per piccole serie.

Optional / accessori

I prezzi menzionati non sono vincolanti.
Non esitate a contattarci per eventuali consulenze tecniche su questo impianto.