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Caratteristiche tecniche:
Plasma etcher Pico
Quadro elettrico:
largh. 550 mm, alt. 330 mm, prof. 500 mm
Camera:
Ø 130 mm, lungh. 300 mm
Apertura camera Ø: 125 mm
Materiale: quarzo o vetro borosilicato
Parete anteriore e posteriore della camera: alluminio
Volume della camera:
ca. 4 litri
Alimentazione gas:
2 canali gas con valvola a spillo
Generatore:
40kHz/100W, variabile
(optional: 13,56 MHz o 2,45 GHz)
Pompa per vuoto:
Leybold, Tipo Trivac D2,5B (2,5 m³/h)
Sistema di caricamento:
Vassoio 1 pz.
Sistema di controllo:
semiautomatico, tempo di processo regolato da temporizzatore
Optional / accessori
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Plasma system PICO UHP impianto di piccole dimensioni adatto anche alla pulizia di componenti
ottici.
Plasma all'interno di PICO UHP.
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